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重中之重，前道裝置居首位。光刻機作為前道工藝七大裝置之首（光刻機、刻蝕機、鍍膜裝置、量測裝置、清洗機、離子注入機、其他裝置），價值含量極大，在製造裝置投資額中單項佔比高達23%，技術要求極高，涉及精密光學、精密運動、高精度環境控制等多項先進技術。光刻機是人類文明的智慧結晶，被譽為半導體工業皇冠上的明珠。
衝雲破霧，國產替代迎曙光。目前全球前道光刻機被ASML、尼康、佳能完全壟斷,CR3高達99%。在當前局勢下，實現光刻機的國產替代勢在必行，具有重大戰略意義。在02專項光刻機專案中，設定於2020年12月驗收193奈米ArF浸沒式DUV光刻機，其製程工藝為28奈米。考慮到此專案作為十三五目標，未來具有較大的明確性，結合28nm作為當前關鍵技術節點的效能和技術優勢，我們認為光刻機國產替代將迎來新的曙光，尤其是IC前道製造領域，將初步打破國外巨頭完全壟斷的局面，實現從0到1的突破。
按圖索驥，追根溯源尋標的。通過對即將交付的28nm光刻機進行剖析，建議關注以舉國之力助力國產替代的光刻產業鏈，一是光刻機核心元件：負責整體整合的上海微電子、負責光源系統的科益虹源，負責物鏡系統的國望光學，負責曝光光學系統的國科精密，負責雙工作臺的華卓精科，負責浸沒系統的啟爾機電；二是光刻配套設施：包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機缺陷檢測裝置，塗膠顯影裝置等。
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