光刻機全球龍頭ASML在美國的銷售額連續3年下降，與此形成鮮明對比的是，同期ASML在韓國和台灣地區的銷量增幅高達3倍，證明美國對半導體生產基礎設施的投資不足。

據ETNews報導，ASML佔全球光刻機市場的84%，並獨家供應先進工藝所需的EUV光刻機。引進其裝置的數量會影響半導體生產能力，因此其銷售額能夠被用於衡量各地區對半導體裝置投資情況。

財報顯示，2019年到2021年，ASML在美國的收入下降了約20%。從2019年的19.8億歐元，到2020年和2021年分別減少到16.57億歐元和15.83億歐元。

同期，ASML在亞洲的銷售額顯著增長。在主要的半導體生產基地韓國，銷售額從2019年的22.02億歐元增長到2021年的62.23億歐元，增長了近兩倍。

台灣地區也從2019年的53.57億歐元增長到去年的73.27億歐元，增幅為37%。這是三星電子和SK海力士為擴大尖端微處理能力，引進了大量EUV光刻機的結果。臺積電大舉投資半導體裝置，也推動了銷售的增長。

在美國禁止出口ASML核心裝置EUV曝光裝置的中國大陸，其年銷售額也翻了一番，從2019年的13.77億歐元增至2021年的27.4億歐元。據分析，中國大陸購買的光刻裝置比美國還多。除受管制的EUV裝置外，主要引進了ArF、KrF、i線等光刻裝置。

ASML在美國的銷量下降證明，美國在半導體生產基礎設施方面的投資到目前為止還不夠。到2020年，美國缺乏投資半導體晶圓廠的意願。據分析，這是因為英特爾宣佈進入代工領域的時間較晚，以及美光曾經對EUV裝置持懷疑態度。

隨著美國吸引本國的半導體生產基地，ASML裝置的引進預計將會加速。英特爾計劃到2025年採用ASML下一代曝光裝置，美光也正式使用EUV裝置。

但是半導體業界預測，美國的半導體生產能力不會立即超過台灣和韓國。半導體業界有關人士表示:“作為ASML的主要銷售和核心裝置的EUV裝置在台灣為80臺，在韓國為50臺，與美國存在差距。美國大舉投資不會導致短期產能逆轉。”

自 集微網