據外媒報導，臺積電在最近舉行的年度技術研討會上透露了大量有關該公司的資訊，尤其是有關其晶片製造業務未來的資訊。這些資訊包括有關N5、N4、N3和N12e等先進工藝節點的新細節，這些節點將在未來幾年為許多裝置提供動力。不過，臺積電也透露了自己在尖端製造實力中的地位。
根據Ian Cutress博士的報告，臺積電目前佔到行業EUV（極紫外光）裝置安裝數量的50%。此外，臺積電還宣稱其EUV晶圓產量佔整個行業累計產量的60%。
臺積電的N7+工藝是該公司第一個使用EUV光刻技術的節點，而該公司的N5工藝將進一步利用EUV技術。此外，任何超5nm的器件都將廣泛依賴EUV光刻技術。目前，除了臺積電的N7+和N5，三星也有其7LPP工藝並有望利用EUVL。
ASML是唯一一家生產和銷售EUV光刻裝置的公司，據Cutress估計，臺積電已經從這家公司手中購買了30-35臺裝置。據估計，ASML今年已售出約70臺機器，等到底可能會達到90臺。
最近，臺積電慶祝了10億多塊無缺陷7nm晶片的出貨。
自 cnbeta