在半導體工藝進入7nm之後，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。韓國媒體報導，近年來韓國企業及科研機構在EUV光刻工藝大舉投入，專利技術上正在跟國外公司縮短差距。

據報導，在2011到2020年的專利申請中，向韓國智慧財產權局(KIPO)提交的與EUV光刻相關的專利申請數量達到88件的峰值，2018年達到55件，2019年達到50件。

其中2019年中韓國本土公司提出的EUV專利申請為40件，超過了國外10件，這也是韓國提交的EUV專利首次超過國外公司。

在2020年中，韓國公司提交的EUV專利申請達到了國外的2倍多，其中三星公司是最多的，該公司今年已經開始使用5nm EUV工藝生產手機處理器。

從全球來看，TOP6的廠商申請的EUV專利佔了全部的59%，其中卡爾蔡司佔比18%（畢竟光學物鏡是EUV核心），位列第一，三星緊隨其後，專利申請佔比18%，ASML公司佔比11%，位列第三。

再往下，韓國S&S Tech佔了85，臺積電佔了6%，SK海力士佔了1%。

從具體技術專案看，工藝技術申請專利佔32%，曝光裝置技術申請專利佔31%，掩膜技術申請專利佔28%，其他申請專利佔9%。

在工藝技術領域，三星電子佔39%，臺積電佔15%。

在光罩領域，韓國S&S科技佔28%，日本Hoya佔15%，韓國漢陽大學佔10%，日本朝日玻璃佔10%，三星電子佔9%。