遮罩，顧名思義是一種可以掩蓋其它元素的控制元件。常用於修改其它元素的外觀，或限制元素的形狀。比如ScrollView或者圓頭像效果都有用到遮罩功能。本系列文章希望通過閱讀UGUI原始碼的方式，來探究遮罩的實現原理，以及通過Unity不同遮罩之間實現方式的對比，找到每一種遮罩的最佳使用場合。
本文是UGUI遮罩系列的第三篇，也是最後一篇。前兩篇分別是對Mask和RectMask2D的原始碼分析，詳細解讀了它們的原理與實現細節。這次的側重點是對Mask和RectMask2D做一個對比分析，同時總結一下在Mask和RectMask2D不起作用的場景下如何實現遮罩效果。本文大部分內容建立在讀者已瞭解Mask與RectMask2D原理的基礎之上，所以在閱讀本文前建議先看下前兩篇文章。
本文所做的一些測試與驗證均基於Unity2019.4版本
Mask與RectMask2D對比
1. Mask遮罩的大小與形狀依賴於Graphic，而RectMask2D只需要依賴RectTransform
Mask是利用Graphic渲染時修改對應片元的模板值來確定遮罩的大小與形狀的，Graphic的形狀決定了Mask遮罩的形狀。因此缺少Graphic元件，Mask遮罩將會失效。當禁用了物件的Graphic元件，比如Image元件，Unity會有以下警告提示
RectMask2D是利用自己的RectTransform計算出裁剪矩形，然後降低不在矩形內的片元透明度來實現遮罩效果，因此不需要依賴Graphic元件
2. Mask支援圓形或其他形狀遮罩， 而RectMask2D只支援矩形
Mask遮罩形狀可以更加多樣，由於Mask遮罩的形狀由Graphic決定，所以利用不同的Graphic可以實現不同形狀的遮罩
而RectMask2D通過RectTransform計算裁剪矩形的機制導致它只能支援矩形遮罩，僅在 2D 空間中有效，不能正確掩蓋不共面的元素
3. Mask會增加drawcall
除了繪製元素本身所需的1個drawcall以外，Mask還會額外增加2個drawcall。一個用來在繪製元素前修改模板緩衝的值，另一個用來在所有UI繪製完後將模板緩衝的值恢復原樣
舉個例子，如下所示的一個UI場景，畫布下一個帶有Mask元件的panel父節點，其下有一個子節點Image
通過Unity的幀偵錯程式檢視渲染過程，共有3次drawcall
3次drawcall的區別主要在於模板引數的不同。第一次是總是通過（Stencil Comp:Always）模板測試，並將模板值替換（Stencil Pass:Replace）為1（Stencil Ref:1）。第二次是用於繪製Image的。第三次是總是通過（Stencil Comp:Always）模板測試，並將模板值設定為0（Stencil Pass:Zero），即起到擦除模板值的作用。
4. RectMask2D可能會破壞合批
有如下所示的一個測試場景，Panel1和Panel2都是隻掛有RectTransform元件的單純父節點，其下都有一個Image子節點，正常情況下應該可以合批，drawcall應為1
通過幀偵錯程式檢視，確實如此，成功合批，drawcall是1
此時給Panel1新增一個RectMask2D元件，實現遮罩效果。Panel2保持不變
通過幀偵錯程式檢視，drawcall數量是2，原本的合批被破壞了。
由此，網上查到的一些資料會得出“RectMask2D節點下的所有孩子都不能與外界UI節點合批且多個RectMask2D之間不能合批”的結論，實際上這是一種不嚴謹的說法，甚至是錯誤的。要搞清楚這個問題，需要先弄明白為什麼RectMask2D會破壞合批？
通過幀偵錯程式可以發現，是RectMask2D傳遞裁剪矩形時，修改了Shader的引數，導致不能合批。從下圖可以看到2次drawcall的區別就在於_ClipRect不同
既然是裁剪矩形引數不同導致不能合批，那如果將兩個裁剪矩形引數設定為一致是不是就能合批了呢？動手驗證一下，給Panel1和Panel2都新增上RectMask2D元件，同時將它們的RectTransform引數設定為完全一致（這樣可以保證裁剪矩形引數相同），然後把Panel1的子節點Image往左移，Panel2的子節點Image往右移，讓它們都能顯示出來。最終效果如下圖所示
再次測試後可以看到drawcall只有1次了，_ClipRect是相同的值。因此可以得出結論，RectMask2D確實由於裁剪矩形引數的設定會破壞合批，但不是一定的。在滿足條件時，RectMask2D節點下的孩子也能與外界UI節點合批，多個RectMask2D之間也是能合批的。
5. Mask與RectMask2D用哪個？
Mask的實現利用了模板緩衝區，會增加2個drawcall，效能會受到一定影響。簡單的UGUI介面，還是建議使用RectMask2D，相對來說效能更強，也無需額外的繪製呼叫。但由於RectMask2D也有可能破壞合批，在複雜的情況下，並沒有確切的結論來判斷哪個更優，只能利用工具實際測試找到最優者，具體問題具體分析才是正確做法。當然，諸如圓形遮罩等一些RectMask2D無法勝任的場景，還是要使用Mask
粒子系統實現遮罩效果
遊戲的UI介面也經常會新增粒子效果，有時也會需要對粒子新增遮罩。Mask和RectMask2D只適用於UGUI，對粒子系統無法生效。此時可以使用SpriteMask。SpriteMask的原理與Mask相同，都是基於模板測試實現。
粒子系統的Renderer模組有對應的Mask屬性設定，可以調整粒子在精靈遮罩外部和內部的可見性
MeshRenderer實現遮罩效果
UI介面新增的一些特效也有可能是MeshRenderer實現的，例如利用Shader製作的頂點動畫。但MeshRenderer沒有提供Mask相關設定，無法使用遮罩。好在基於模板測試實現遮罩的原理都是相同的，可以自己動手修改MeshRenderer使用的材質，在Shader中新增ShaderLab模板配置來使用模板測試
需要新增到Shader中的程式碼如下所示
Properties
{
_StencilComp ("Stencil Comparison", Float) = 8
_Stencil ("Stencil ID", Float) = 0
_StencilOp ("Stencil Operation", Float) = 0
_StencilWriteMask ("Stencil Write Mask", Float) = 255
_StencilReadMask ("Stencil Read Mask", Float) = 255
}
Stencil
{
Ref [_Stencil]
Comp [_StencilComp]
Pass [_StencilOp]
ReadMask [_StencilReadMask]
WriteMask [_StencilWriteMask]
}
新增完成後，材質介面會多出模板相關的配置，如下所示
再配合SpriteMask，修改對應的模板引數，就可以模擬遮罩效果了。例如
- Stencil Comparison設定為3，就相當於"Visible Inside Mask"
- Stencil Comparison設定為6，就相當於"Visible Outside Mask"
- Stencil Comparison設定為8，就相當於"No Masking"