Lightmass靜態全域性光照

文件變更記錄: 由 Daniel Wright 建立。

概述

Lightmass建立具有類似於區域陰影和漫反射互動反射那樣的複雜光照互動的光照貼圖。它對其它的渲染方法(動態光照及陰影)是沒有影響的,它僅是使用較高質量的光照貼圖和陰影貼圖代替了其它的光照貼圖及靜態陰影貼圖。

虛幻引擎3編輯器和Lightmass間的通訊是通過Unreal Swarm來進行處理的，它可以在本地管理光照構建並且也可以將光照構建釋出到遠端機器上。

Swarm Agent也可以跟蹤光照構建程式並使您實時地知道正在使用哪些機器進行工作、它們正在做什麼處理及每臺機器使用了多少執行緒。在底部附近的長條顯示了光照構建完成情況。

下面是一個使用8個執行緒進行本地構建光照的圖片。

請參照 Unreal Swarm頁面獲得更多資訊。

版本

第一次引進Lightmass是在 QA_APPROVED_BUILD_JUN_2009版本中。

遺留支援

在新的地圖中使用舊的UE3光照

自版本QA_APPROVED_BUILD_JUNE_2009後，新的地圖將預設使用Lightmass全域性光照。這由在UnrealEd中的View->World Properties->Lightmass下的 bUseGlobalIllumination 控制。也可以通過UnrealEd中的光照構建對話方塊中獲得。要獲得舊的UE光照，只要簡單地禁用 bUseGlobalIllumination 即可。

轉換一個現有地圖來使用Lightmass

在Lightmass出現之前建立的關卡在整合時將會設定 bUseGlobalIllumination 為 false ，且它將繼續使用舊的UE3靜態光照方法。這裡是轉換現有關卡所需要的步驟:

• 設定 bUseGlobalIllumination 為 true 或者勾選此項。
• 在您關卡中需要詳細的全域性光照部分的周圍放置一個或多個LightmassImportanceVolumes。這些相結合的體積的半徑將對您的光照構建時間會產生巨大的影響，所以請嘗試儘量緊密地包圍您關卡中最重要的部分。
• 禁用或刪除關卡中任何填充光源。Lightmass將計算光線反射，所以您僅需要保持主光源即可。天空光源對於Lightmass沒有太大作用，它們僅會降低您的潛在差異，如果天空光源是作為一個環境條件使用的，最好也禁用它們。當然，可以保留填充光源以便獲得更多的美感控制。

Lightmass功能

區域光源和陰影

在舊的UE3靜態光照中，光源沒有任何表面區域。所有的光源都被當做從一個單獨的點 (或者一個具有唯一方向的定向光源)發出來進行處理。

區域陰影是通過過濾光照貼圖中的陰影效果來進行近似計算的，這意味著陰影的半影的尖銳程度依賴於光照貼圖解析度，並且在具有同樣光照貼圖解析度的所有平面上半影的大小是一樣的。

使用Lightmass，所有的光源在預設情況下都是區域光源。點光源和聚光源所使用的形狀是球型，它的半徑通過使用在LightmassSettings下的LightSourceRadius進行設定。定向光源使用一個圓盤，被放置在場景的邊緣。控制陰影的柔和度的兩個因素中的之一是光源的大小，光源越大將會產生更加柔和的陰影。另一個因素是從接受陰影位置到陰影投射物之間的距離。隨著這個距離的增加，區域陰影將會變得越柔和，就像現實生活中一樣。

第一個圖片是一個使用舊的UE3靜態光照的定向光源，半影的大小在每處都是一樣的。第二個圖片是由Lightmass計算出的區域陰影，陰影的尖銳程度使用光源的大小和遮光板的距離控制。注意柱子的陰影在柱子越接近地面的地方變得越來越尖銳。

 

點光源和聚光源的半徑畫在了黃色線框裡，但是光源的影響半徑畫在青色線框裡。大多數情況下，您要確保光源不會和任何投射陰影的幾何體相交，否則光源將在那個幾何體的兩側都投射光照。

帶符號的距離場陰影

Lightmass能夠以不同的編碼方式生成預計算陰影，請檢視DistanceFieldShadows(距離場陰影)頁面獲得更多資訊。

漫反射的互動反射

到目前為止，漫反射的互動反射是在視覺上最重要的全域性光照效果。光源預設使用Lightmass進行反射，您的材質上的Diffuse(漫反射)因素將會控制在各個方向上將反射多少光線(及什麼顏色)。這個效果有時被稱為顏色擴散。請記住漫反射互動是入射光線將在所有方向均勻地反射，這就意味著觀看方向及位置的不同對於看到效果沒有影響。

這裡是一個使用單一的定向光源且僅顯示直接光照的情況下使用Lightmass構建的場景。注意陰影半影的尺寸是如何隨著遮光板的距離變化的。沒有被光源直接照射到的地方是黑色的。這便是沒有全域性光照的結果。

這是第一次漫反射全域性光照的效果。請注意左側椅子下面的陰影，這被稱為間接陰影，因為它是間接光照的陰影。漫反射的反射光線的亮度和顏色由入射光線及同光源進行互動的材質的漫反射條件決定。每次漫反射光線比前一個個都會更暗，因為光源的某些光線會被表面吸收而不是被反射。由於柱子的基部更加靠近直接光源區域，所以它們比其它的表面獲得了更多的間接光源。

這是第二次漫反射。光源已經變得更加的衰弱並且將最終變得分散。

這裡是組合了4個漫反射的場景。模擬全域性光照建立了比手動放置填充光源更加詳細並真實的光照。尤其，間接陰影是不可能通過使用填充光源實現的。

反射光線獲得底下材質的漫反射顏色，正如您在下面所看到的。這便是術語'color bleeding(顏色擴散)'產生的原因。顏色擴散在使用高飽和顏色處是最明顯的。您可以通過提高在圖元、材質或關卡中的DiffuseBoost來誇大這個效果。

 

角色光照

Lightmass在LightmassImportanceVolume(Lightmass重要體積)內在均勻的3d網格中以較低的解析度放置樣本，也在角色可能會在上面行走的向上的平面上以較高的解析度放置樣本。每個光照樣本可以從各個方向捕獲間接光照，但是不捕獲直接光照。

第一個圖片是地面上放置的光照樣本在除錯狀態下呈現的效果，第二個圖片是同一場景在帶光照模式下的效果。注意在紅色毛毯上的樣本是如何獲得紅色的反射光線的。樣本看上去是單一的顏色，但它們確實在從各個方向捕獲光照。

 

LightEnvironments(光照環境)然後在使用這些光照樣本的actor的位置上查詢間接光照。這些間接光照影響光照環境陰影的顏色，但不影響方向。

以下角色是被樓梯下面的第一次漫反射全域性光照照亮的效果。

限制

• 目前光照樣本會使用很多的記憶體，它們的放置可以通過學習更多的關於人物的哪個部分需要詳細的間接光照的知識來進行優化(即遊戲區域)。
• 動態地照亮沒有使用光照環境的物體將僅受到直接光照的影響。
• 在LightmassImportanceVolume(Lightmass重要體積)之外的光照環境將有黑色的間接光照。

源於自發光的網格物體的區域光源

您應用到靜態物體的任何材質的自發光輸入都可以用於建立網格物體區域光源。網格物體區域光源和點光源類似，但是它們可以有任何形狀及在整個光源表面可以有任意亮度。每一個活動的自發光貼影象素將根據那個貼影象素的亮度在圍繞貼影象素法線的半球內發光。每個自發光貼影象素的鄰接組將會被認為是一個可以發出一種顏色的網格物體區域光源。

第一個圖片僅顯示了底下材質的自發光，第二個圖片顯示了從這些自發光貼影象素建立而來的4個網格物體區域光源的效果(建立了4個光源是因為活動自發光貼影象素有4個鄰接塊)。

 

預設情況下，網格物體區域光源將不會從自發光區域進行建立。要想啟用它們，可以任何圖元元件的 LightmassSettings組下找到bUseEmissiveForStaticLighting標誌並選中它。對於BSP表面，這個選項在表面屬性中。

EmissiveLightFalloffExponent 設定允許您控制發射出的光線的衰減情況。它的表現和點光源的衰減指數類似，大的指數將導致光源隨著向光源影響半徑前進衰減得更快。網格物體區域光源的影響半徑是由光源亮度及光源自發光表面區域的大小來自動地決定的。 = EmissiveBoost= 可以縮放所有自發光貼影象素的亮度，這個亮度也會對影響半徑產生影響。

注意網格區域光源會增加構建時間，它們對構建時間產生的影響和點光源一樣。具有較小的影響半徑的網格物體光源在進行光照計算時將會更快。

限制

• 具有很多三角形的網格物體上的網格物體區域光照將會增加構建時間。對於包含三角形數量大於3000的網格物體將會產生一個警告；對於包含的三角形數量大於5000的網格物體，無論bUseEmissiveForStaticLighting的設定是什麼都不會將其用作為網格物體區域光源。

半透明陰影

光源穿過投射靜態陰影的網格物體的半透明材質將會丟失一些能量，從而導致半透明陰影。

半透明陰影顏色

穿過材質的光線量稱為 Transmission (它們和材質編輯器中在不透明的材質上進行操作的 TransmissionColor 及 TransmissionMask 不同。)，每種顏色的通道的範圍是0到1。值0將會是完全地不透明，值1則意味著入射光線穿過且沒有受到影響。因為Transmission沒有材質輸入，所以當前它從其他的材質輸入輸入衍生而來，如下所示：

• Lit materials(帶光照的材質)
  • BLEND_Translucent and BLEND_Additive: Transmission = Lerp(White, Diffuse, Opacity)
  • BLEND_Modulate: Transmission = Diffuse
• Unlit materials(無光照的材質)
  • BLEND_Translucent and BLEND_Additive: Transmission = Lerp(White, Emissive, Opacity)
  • BLEND_Modulate: Transmission = Emissive

這意味著在不透明性為0時，材質將不會過濾入射光線，將不會產生半透明陰影。當透明性為1時，入射光線將被材質的自發光或漫反射(依賴於它是否被照亮)過濾。注意：間接光照有時會沖掉半透明陰影，並使它們的顏色不像半透明材質的自發光或漫反射光線的顏色那樣深。

半透明陰影的尖銳度

有幾個控制半透明陰影尖銳度的因素。

在第一個圖片中，使用了一個大的光源(LightSourceAngle為5 的定向光源)；在第二個圖片中，使用了一個小的光源(LightSourceAngle為0)。

 

在第一個圖片中，使用了一個小的光源，但是光照貼圖解析度太低以至於不能捕獲到尖銳的半透明陰影。在第二個圖片中，匯出材質的解析度(由材質編輯器中的 ExportResolutionScale 控制)太低以至於不能捕獲到尖銳的陰影。

 

間接光源也會受到半透明材質的影響。這個圖片中的窗子基於它的Transmission來過濾了入射光線，然後那個光源使用改變的顏色在場景的周圍進行反射。

限制

• 目前半透明材質還不能散設光線，所以它們將不能把顏色擴散到它們周圍的物體上。
• 目前第一次漫反射不會受到半透明的窗子的影響。這意味著穿過透明材質的第一次反射的間接光源將不會通過材質的Transmission進行過濾。
• 目前，不支援折射(光線傳播時被改變方向吸收) 。

蒙板陰影

Lightmass在計算陰影時考慮了BLEND_Masked材質的不透明蒙板。在編輯器視口中被省略的材質部分也不會產生任何陰影，它允許從樹木和植被中獲得更加詳細的陰影。

 

環境遮擋

Lightmass可以自動地計算詳細的間接陰影，但是為了達到藝術目的或者提高場景中的接近度的感覺，誇大間接陰影是有幫助的。

環境遮擋是您從具有均勻光照的上半球上獲得的間接陰影，就像陰暗的天空。Lightmass支援計算環境遮擋，並可以把它應用到直接及間接光照上，然後把它烘焙到光照貼圖中。環境遮擋在預設情況下是禁用的，可以通過在View(檢視)->World Properties(世界屬性)->Lightmass 中勾選 bUseAmbientOcclusion 來啟用它。

第一個圖片的場景是具有間接光照但是沒有環境遮擋的效果。第二個圖片的場景還是和剛才一樣的場景，但是它的直接和間接光照都應用了環境遮擋，請注意檢視物體結合處的地方變暗了。

Ambient Occlusion(環境遮擋)設定:

• bVisualizeAmbientOcclusion(是否顯示環境遮擋) -當構建光照時，僅使用遮擋因素覆蓋光照貼圖。這對檢視具體的遮擋因素及比較不同的設定的效果是有用的。
• MaxOcclusionDistance(最大遮擋距離) - 一個物體對另一個物體產生遮擋的最大距離。
• FullyOccludedSamplesFraction(完全被遮擋的樣本片段) -為了達到完全遮擋，所採用的必須被遮擋的樣本的部分。注意還有一個基於每個圖元的FullyOccludedSamplesFraction，它允許控制一個物件對其他物件的遮擋程度。
• OcclusionExponent(遮擋指數) -指數越高對比越明顯。

圖片

• 第一個圖片: 預設的環境遮擋設定(MaxOcclusionDistance為200、FullyOccludedSamplesFraction為1.0、OcclusionExponent為1.0)
  
• 第二個圖片: MaxOcclusionDistance為5。刪除了低頻率遮擋，僅留下角落中的遮擋。
• 第三個圖片: FullyOccludedSamplesFraction的值為0.8。遮擋在整個範圍內逐漸變暗，遮擋大於等於80%的區域被設定為全黑色。
• 最後一個圖片: OcclusionExponent 為2。遮擋從中間範圍更快地轉換為飽和的黑色，遮擋被推向了角落。

  

當NumIndirectLightingBounces大於0的情況下進行光照構建時，Ambient Occlusion(環境遮擋)幾乎沒有消耗效能。

限制

• 如果要使Ambient Occlusion(環境遮擋)的效果看上去很好，則需要使用一個相當高的貼圖解析度，因為它在角落的變化很快。當由於頂點通常在環境遮擋最高的角落導致網格物體的大部分割槽域將會變暗時，頂點光照貼圖將會產生奇怪的效果。
• 環境遮擋的在預覽級別下進行構建的質量不會很好，因為環境遮擋需要很多密集的光照樣本(就像間接陰影一樣)。

使用Lightmass來獲得最佳質量

使光照變得顯而易見的

漫反射貼圖

在渲染過程中，帶光照畫素的顏色被作為為Diffuse* Lighting(漫反射光照)，所以漫反射的顏色直接影響著光照的視覺效果。高對比度的或較暗的漫反射貼圖使光照很難被注意到，然而低對比度、中間範圍的漫反射貼圖將會使光照的細節進行完整的顯示。

第一個圖片中場景使用中間範圍漫反射貼圖，第二個圖片的場景也是使用Lightmass進行構建，但是使用了噪聲和較暗的漫反射貼圖，比較這兩個場景中光照的清楚度。第二個圖片的場景中只有最高頻率的改變效果是顯著的，就像陰影變換一樣。

無光照檢視模式對於檢視Diffuse的資訊是有用的。第一個圖片中的場景在Unlit（無光照）檢視模式下看上去更單調，這意味著是光照正在完成所有的工作，最終畫素顏色的變化主要依賴於光照的不同。

請參照檢視模式頁面獲得更多資訊。

 

在無光模式下的圖片的幾個部分上使用編輯器的顏色選擇器，我們會看到第一個圖片中場景的漫反射值大約是0.5，然而第二個圖片中場景的漫反射值大約是0.8。在Photoshop中檢視這些無光模式下的圖片的柱狀圖會使您更好地看到這些漫反射貼圖的分佈。*注意： Photoshop 是在gamma 空間中顯示您的顏色值，所以值186 (.73)事實上是黑色和白色之間的部分，而不是值127 (.5)* 。第一個圖片顯示了要獲得顯著地光照效果時柱狀圖的樣子。

 

光照設定

• 避免Skylights(天空光源)！ Skylights(天空光源)會給您的關卡新增一個不變環境條件，它會降低在非直接光照區域中的差異。
• 設定光源，以便在直接光照區域和間接光照區域有較高的對比。這個對比將使它很容易地找到陰影變換髮生的位置，並使您的關卡具有更好的深度感。
• 設定光源，以便明亮的區域不會太明亮，而黑暗的區域也不會是完全地變黑，但是仍然可以看到細節。在最終的目標顯示上檢查黑暗區域是很重要的。

提高光照質量

光照貼圖解析度

具有高解析度的光照貼圖是獲得詳細的、高質量的光照貼圖的最好方法。頂點光照貼圖是依賴於細分的，所以它們通常不能像區域陰影那樣展現光照細節，它們僅能顯示網格物體所在區域的大體顏色。使用高解析度的光照貼圖會由於佔用了更多的貼圖共享記憶體及增加構建時間而帶來效能上的下降，所以這是一個妥協。理想狀態下，高光照貼圖解析度應該分配在視覺效果影響比較重要的區域周圍及頻繁出現陰影的地方。

Lightmass Solver質量

Lightmass Solver的設定是基於在Lighting Build Options(光照構建選項)對話方塊中所要求的構建質量來自動地進行相應設定的。Production(產品級別)將會提供足夠好的質量，以至於應用漫反射貼圖的失真都不會被明顯地察覺。有一個設定將會對質量產生巨大的影響，它便是StaticLightingLevelScale。降低縮放因數將會產生更多的間接光照樣本，它會以增加構建時間的代價來提高間接光照和陰影的質量。在大多數情況下，這僅在增加大關卡的光照縮放因數時有用。

獲得最佳的光照構建時間

有幾種改善您的Lightmass構建時間的方法：

• 僅在擁有高頻率(變化很快)的光照區域內使用高解析度光照貼圖。降低BSP及不在直接光照中或不受尖銳的間接陰影影響的靜態網格物體的光照貼圖解析度。這樣會在最容易引起注意的區域產生高解析度陰影。
• 玩家永遠不會看到的表面應該設定為儘可能低的光照貼圖解析度。
• 用一個LightmassImportanceVolume(Lightmass重要體積)來包含最重要的區域(僅遊戲可活動區域的周圍)。
• 在整個地圖上優化光照貼圖解析度，以便網格物體的構建時間更加均衡。使用LightmassTools#LightingTimings對話方塊來查詢光照構建最慢的物體。光照構建的速度永遠不會快於那個構建速度最慢的單一物體，無論有多少個機器在同時進行分散式構建。

Lightmass設定

Lightmass重要體積

許多地圖中的網格物體都在編輯器網格的邊緣的外面，但實際上需要高質量光照的活動區域(playable area)是非常小的。Lightmass基於關卡的大小來發射光量子，所以這些不易被引起注意的的網格物體將會大大地增加需要發射的粒子的數量，並且會增加光照的構建時間。LightmassImportanceVolume控制Lightmass發射光量子的範圍，允許您將粒子集中在需要詳細間接光照的區域。在重要體積之外的區域僅獲得低階質量的間接反射光照。

第一個圖片顯示的是MP_Jacinto的線框俯檢視。實際上需要高質量光照的活動區域是在中央的小綠色斑點。

第二個圖片中顯示了活動區域MP_Jacinto的封閉區域，選擇了正確的LightmassImportanceVolume設定。LightmassImportanceVolume降低了光源的區域半徑，從80,000個單位到10,000個單位，要照亮的面積減少了64倍。

 

LightmassImportanceVolumes的建立和其它體積的建立類似，在您想建立體積的地方放置一個構建畫刷，然後右擊Add Volume(增加體積)按鈕並選擇LightmassImportanceVolume，如下所示：

在這一點上，使用多個能將要照亮的區域更緊密地包圍起來的LightmassImportanceVolumes是有好處的，因為光照是使用包圍所有重要體積的包圍盒進行處理的。

光照構建選項對話方塊

• Build Quality(構建質量) -控制構建光照要花費多長時間及在哪種光照質量下進行計算。Preview(預覽級別)的構建速度最快、質量最低(但仍然可以表現效果)，而Production(產品)級別的構建速度最慢、質量最高，應該用來作為發行的級別。每種質量設定都會比它上面的設定在執行上會慢三倍。Preview (預覽級別)及 Medium(中間級別)將會顯示顏色誤差，但是高階別和產品級別則不顯示。
• Use Lightmass(使用Lightmass ) - 僅在這次光照構建中覆蓋關卡中的bUseGlobalIllumination(是否使用全域性光照)選項。*注意: 關卡的bUseGlobalIllumination 選項不會永久地被改變。

世界設定

• bUseGlobalIllumination(是否使用全域性光照) -關卡是否應該使用Lightmass或者舊版本的UE3的直接光照。自從QA_APPROVED_BUILD_JUNE_2009版本開始，新的地圖中此項預設為真，舊的地圖中此項預設設定為假。
• StaticLightingLevelScale(靜態光照關卡縮放) - 關卡的縮放和遊戲的縮放是成比例的。這用於決定在光照計算中要詳細到何種程度，較小的縮放比例將會大大地增加構建時間。預設為1.0，意味著這個關卡需要的比例和遊戲的光照縮放比例一樣。縮放比例為2意味著當前關卡僅需要計算比預設情況大2倍的間接光照互動作用，光照構建將會更快。戰爭機器2中的SP_Assault是說明何時使用StaticLightingLevelScale的一個例子。關卡很大(佔據了編輯器網格的3/4)並且大多數時候您都是開車經過它，而不是步行，並且詳細光照不明顯。在這個關卡中StaticLightingLevelScale設定為4是合適的，這將會大大地減少構建時間。
• NumIndirectLightingBounces(間接光照的反射次數) - 允許光源在表面上進行反射的次數，從光源開始。0僅是指直接光照，1是指第一次反射等。第一次反射在計算時所用的時間最長，接下來是第2次反射。後續的反射幾乎是不佔用時間的，但也不會增加很多光線，因為光源在每次反射時都會衰減。
• EnvironmentColor(環境顏色) -未到達場景的光線所使用的顏色。環境可以被視覺化地作為一個包圍關卡的球體，在各個方向發出這個顏色的光。
• EnvironmentIntensity(環境亮度) -縮放EnvironmentColor來允許一個HDR環境顏色。
• EmissiveBoost(自發光改進) -縮放場景中所有材質的自發光分佈。
• DiffuseBoost(漫反射改進) -縮放場景中所有材質的漫反射分佈。增加DiffuseBoost是增加場景中間接光照亮度的有效方式。為了儲存材質的能量(意思是光源在每次漫反射後都會減少而不是增加)，漫反射條件在應用了DiffuseBoost後在亮度上限定為1.0。如果增加的DiffuseBoost沒有產生更亮的間接光照，且漫反射條件已經被限定了，應該使用光源的IndirectLightingScale來增加間接光照。
• SpecularBoost(高光改進) -縮放場景中所有材質的高光分佈。目前沒有使用。
• IndirectNormalInfluenceBoost(間接法線影響改進) - Lerp因數控制具有定向光照貼圖的法線貼圖對間接光照的影響。值為0給出了一個光源正確分佈，它可能僅在由間接光照照亮的區域產生一些小的法線影響，但會產生較小的光照貼圖壓縮失真。值為0.8將會導致80%的光線會在主要入射光線的方向上進行再分佈，這會有效地增加每個畫素的法線影響，但是會導致更嚴重的光照貼圖壓縮失真。
• bUseAmbientOcclusion (是否使用環境遮擋) - 啟用靜態環境遮擋，使用Lightmass對其進行計算並把它構建到光照貼圖中。
• DirectIlluminationOcclusionFraction(直接光照環境遮擋部分) -應用到直接光照的環境遮擋的數量。
• IndirectIlluminationOcclusionFraction(間接光照環境遮擋部分) -應用到間接光照的環境遮擋的數量。
• MaxOcclusionDistance(最大遮擋距離) - 一個物體對另一個物體產生遮擋的最大距離。
• FullyOccludedSamplesFraction(完全被遮擋的樣本片段) -為了達到完全遮擋，所採用的必需被遮擋的樣本片段。
• OcclusionExponent(遮擋指數) -指數越高對比越明顯。
• bVisualizeMaterialDiffuse(是否顯示材質漫反射) -使用已匯出到Lightmass中的材質漫反射條件來覆蓋正常的直接和間接光照。當確認匯出的材質漫反射和實際的漫反射相匹配時是有用的。
• bVisualizeAmbientOcclusion(是否顯示環境遮擋) -僅使用環境遮擋條件覆蓋正常的直接和間接光照。這在調整環境遮擋設定時是有用的，因為它隔離了遮擋條件。

光源設定

要獲得在UE3中設定光源的更多資訊，請檢視光照參考和陰影參考頁面。

• IndirectLightingSaturation(間接光照飽和度) - 0將會導致完全地降低間接光照的飽和度，1將不會引起間接光照的飽和度改變。
• IndirectLightScale(間接光源縮放) -縮放來自這個光源的間接光照的亮度。這個和DiffuseBoost在改變被反射的光線量方面是類似的，但是不同之處在於它僅改變發射的光線量，而不是改變在每次反射中衰減的光線量。同時，DiffuseBoost僅能增加間接光照到某個特定的點，因為Diffuse(漫反射)被限定為要保持它的亮度低於或等於1.0。IndirectLightScale可以增加任意數量的光照亮度。
• LightSourceRadius(光源半徑) - (僅用於點光源和聚光源)光源的自發光球體的半徑，不是光源影響範圍的半徑，光源的影響範圍不是由半徑控制的。一個較大的LightSourceRadius(光源半徑)將會導致較大的陰影半影。
• LightSourceAngle(光源角度) - (僅用於定向光源)定向光源的自發光圓盤的角度(以度數為單位)。較大的角度將導致較大的陰影。注意這個角度是從定向光源的圓盤中心到圓盤邊緣的角度，而不是從圓盤的一個邊緣到另一個邊緣的角度。太陽的角度大約是25度。
• ShadowExponent(陰影指數) -控制陰影半影的衰減，或者區域從完全照亮到完全陰影的速度。

圖元元件設定

• DiffuseBoost(漫反射改進) -縮放應用到這個物體的所有材質的漫反射分佈。
• EmissiveBoost(自發光改進) -縮放應用到這個物體的所有材質的自發光分佈。
• EmissiveLightExplicitInfluenceRadius(自發光光源的直接影響半徑) -直接光照影響半徑。預設為0，意味著影響半徑應該基於自發光光源的亮度自動產生。大於0的值將會覆蓋自動產生的方法。
• EmissiveLightFalloffExponent(自發光光源衰減指數) -對於從這個圖元的自發光區域建立的網格物體區域光源的直接光照衰減指數。
• FullyOccludedSamplesFraction(完全被遮擋的樣本片段) - 為了達到完全遮擋，所採用的必須被遮擋的樣本的部分。 這允許控制一個物件對其他物件的遮擋程度。
• bShadowIndirectOnly - 如果選中該項，這個物件將僅呈現間接光照陰影。這對於草來說是有用的，因為所渲染的幾何體就是真是幾何體的展現，不會不必要地投射精確形狀的陰影。還個設定對於草來說有用的另一個原因是所獲得陰影的頻率太高以至於不能儲存在預見算光照貼圖中。
• SpecularBoost(高光改進) -縮放應用到這個物體的所有材質的高光分佈。目前沒有使用。
• bUseEmissiveForStaticLighting(靜態光照是否使用自發光) -允許使用網格物體材質的自發光來建立Mesh Area Lights(網格物體區域光源)。
• bUseTwoSidedLighting - 如果選中該項，那麼這個物件的照亮狀態就像它的多變性兩面都接收到光照一樣。

基本的材質設定

要獲得關於材質編輯器的更多資訊請檢視材質編輯器使用者指南。

• EmissiveBoost(自發光改進) -縮放這個材質的自發光分佈為靜態光照。
• DiffuseBoost(漫反射改進) -縮放這個材質的漫反射分佈為靜態光照。
• SpecularBoost(高光改進) -縮放這個材質的高光分佈為靜態光照。
• ExportResolutionScale(匯出解析度縮放比例) -縮放這個材質的屬性匯出時所使用的解析度。這對在需要細節時來增加材質的解析度是有用的。

材質例項常量設定

要獲得關於材質例項編輯器的更多資訊，請檢視材質例項編輯器使用者指南頁面。

• EmissiveBoost(自發光改進) -當勾選該項，將覆蓋父項的EmissiveBoost。
• DiffuseBoost(漫反射改進) -當勾選該項，將覆蓋父項的DiffuseBoost。
• SpecularBoost(高光改進) -當勾選該項，將覆蓋父項的SpecularBoost。
• ExportResolutionScale(匯出解析度縮放比例) -當勾選該項，將覆蓋父項的ExportResolutionScale。

工具

關於lightmass的各種工具的資訊，包括除錯測量和解決方案技巧，請參照Lightmass工具頁面。

寫給程式設計師

請檢視Lightmass 技術指南頁面獲得關於Lightmass程式設計及除錯方面的資訊。