2020年臺積電資本支出達170億美元 創歷史新高

報導中還提到，臺積電預計2021年隨著3nm產能建設，以及美國5nm工廠製造，資本開支將超過200億美元。

最新的調查中還顯示，在疫情導致對居家辦公和娛樂裝置需求增加、5G智慧手機大量推出、5G基站大規模建設等的推動下，全球晶片代工市場在2020年大幅增長，研究機構預計規模達到了846.52億美元，同比增長率高達23.7%。

對於2021年，研究機構預計全球晶片代工市場的規模仍將繼續增長，但同比增長率較2020年將明顯放緩。

之前有訊息稱，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進製程的EUV光刻機，而這些都是為了新制程做準備。

據悉，臺積電在材料上的研究，也讓1nm成為可能。臺積電和交大聯手，開發出全球最薄、厚度只有0.7奈米的超薄二維半導體材料絕緣體，可望藉此進一步開發出2奈米甚至1奈米的電晶體通道。

此外，臺積電正為2nm之後的先進製程持續覓地，包含橋頭科、路竹科，均在臺積電評估中長期投資設廠的考量之列。