2019 年 11 月，在中國香港市郊的一所大學校園裡，一群工程師正在設計特別的電腦晶片，他們希望這些晶片可以被用於下一代中國製造的智慧手機之中。
他們設計的是光通訊晶片，利用光而不是電訊號來傳輸資訊，這是 5G 手機和其他聯網裝置所需要的。其中的一位工程師穿著史丹佛大學 T 恤衫靠在椅子上，他是負責該專案的首席工程師和教授 —— 香港科技大學的「晶片專家」俞捷。
「政治上，一切都可以作為討價還價的力量，」俞捷說，「如果這些公司和國家開始對技術有所保留，那麼每個人都會受到傷害，從技術角度看沒有好處。」俞捷專案的部分資金由華為提供。這家中國通訊和電信巨頭在過去的一年中，不斷的成為國際政治風暴的中心。
許多行業觀察人士擔心，這場政治風暴可能會導致全球技術供應鏈面臨崩潰風險。特別是，中國的晶片（或半導體）普遍依賴海外公司，可能會面臨技術斷層的情況，這也加速倒逼國內晶片產業鏈的自研腳步。
晶片到底有哪些核心技術？目前又發展到了哪一步？我們國家目前的研發難點又是什麼？
本期的「SFKP • 計算機百科」，我們就來盤一下「芯事」。
一、「芯」的誕生
晶片在電子學中是一種把電路小型化的方式，也被稱為積體電路或者微電路，時常製造在半導體晶圓表面上。
從 1949 年到 1957 年，維爾納·雅各比（Werner Jacobi）、傑弗裡·杜默（Jeffrey Dummer）、西德尼·達林頓（Sidney Darlington）、樽井康夫（Yasuo Tarui）都分別開發了積體電路原型，但現代晶片的前身是由傑克·基爾比在 1958 年發明的，其中包括一個雙極性電晶體，三個電阻和一個電容器，並因此榮獲了 2000 年諾貝爾物理獎。
晶片對比傳統的離散電晶體有兩個主要優勢：成本和效能。
成本低是由於晶片把所有的元件通過照相平版技術，作為一個單位印刷，而不是在一個時間只製作一個電晶體。效能高是由於元件很小且彼此靠近，小尺寸帶來短路徑，使得低功率邏輯電路可以在快速開關速度應用。
正因如此，僅僅在其開發後半個世紀，晶片就變得無處不在，電腦、手機和其他數字電器成為現代社會結構不可缺少的一部分，現代社會的計算、交流、製造和交通系統，包括網際網路，全都依賴於晶片的存在。
甚至很多學者認為有積體電路或者說是晶片帶來的數字革命是人類歷史中最重要的事件，晶片工藝的成熟將會帶來科技的大躍進，不論是在設計的技術上，或是半導體的工藝突破，兩者都是息息相關。
二、晶片發展的五次變革
雖然積體電路的雛形早在 1949 年就出現了，但直到 1960 年代雙極和 MOS 電路出現之後，隨著矽平面技術的發展，電子管和電晶體制造電子產品的形式從量變產生了質變，讓晶片真正成為了一個相對完整的產業。
在 60 多年的漫長的發展歷程中，晶片行業已經發生了四次重大變革，這四次變革的重要原因都包含“為了解決系統設計或晶片電路設計上的問題”，也讓晶片產業分工上產生了結構性的改變。
第一次變革：行業的第一次洗牌
積體電路產業的第一次變革是從1970年代開始，隨著微處理器與儲存器的誕生，原來由系統公司獨攬系統與 IC 設計的垂直整合時代，轉變為系統公司與 IC 公司的分業體制。
1960 年至 1970 年，行業進行了第一次的洗牌。
在這十年中，基本上每一個晶片廠商都需要進行晶片相關的所有設計與製造。但隨著晶片的發展，功能和涉及的工藝、材料越來越多，設計的過程耗時越來越長，很多生產力較低的廠商的晶片在還未正式推出前就已經成了「過期產品」。
1970 年，晶片的很多元器件開始逐漸標準化，這給了很多中小廠商專注進行晶片的整合與製造的機會，通過直接使用標準化的元器件，加快晶片的生產迭代速度。
這一階段，垂直整合製造公司（IDM） 企業在晶片市場中充當主要角色，積體電路設計（IC）則是作為附屬部門而存在。
但這也導致了一個問題，就是 IDM 類企業過於重視研發成本的控制，從而犧牲了在晶片製作過程中的創新能力。
第二次變革：產品標準化，行業明確分工
第二次變革是在 1980 年代。為了改善系統的速度和簡化程式，專用積體電路（ASIC）技術應運而生，工程師可以不必瞭解電晶體線路設計的細節部分，直接利用邏輯閘設計門陣列（CPLD）、可程式設計邏輯器件（FPGA）、標準單元、全定製電路等，這讓晶片的設計與製作進一步的標準化。
但在整個晶片電路上仍有很多獨立的 IC 電路設計，難以滿足整機客戶對系統成本、可靠性等要求。同時客戶則要求不斷增加 IC 的整合度、減小晶片面積、降本增效，從而增強產品的競爭力，得到更多的市場份額和更豐厚的利潤。
設計觀念上的改變使得專業設計的 Fabless 公司出現，並由專業晶圓代工廠 Foundry 填補 Fabless 公司需要的產能，也就是所謂的 Foundry+Fabless 運營模式。
第三次變革：市場步幅加快，行業能力升級
第三次變革在 1990 年中後期，隨著 Fabless 公司的不斷推進，晶片上整合的電晶體數量已經達到了千萬量級，工藝製程也發展到了 180nm，這讓晶片的能力和應用場景得到了極大的增強。
同時，單片系統（SoC）的出現，顯著的提高了 ASIC 的設計能力。SoC 設計方法學應運而生，其包含三個內容：
1. 系統設計方法
2. IP 核的設計和使用
3. 深亞微米積體電路設計
隨著 SoC 設計方法學的普遍採用，晶片設計公司購買第三方公司的 IP，組合成 SoC，整個過程就跟拼積木一樣，晶片的規模呈指數級增長，從百萬門級發展到今天的數十億門級。
並且，高度複雜的系統功能和愈來愈快速的產品進入市場時間（Time to Market）要求，不允許晶片設計者公司一切從零開始，必須借鑑和使用已經成熟的設計為自己的產品開發服務，這也決定了 SoC 的設計必須採用與傳統單片積體電路設計不同的方法。
積體電路產業發展至此階段，專業分工已經初步形成，隨著SIP設計、EDA工具、晶片設計、晶圓製造、封裝、測試等環節逐步成熟，在各個專業環節湧現出一大批優秀的公司。
第四次變革：晶片行業的合縱與連橫
隨著晶片行業形態的成熟，現在已經進入了叢集虛擬垂直整合（Clustered Virtual Vertical Integration，CVVI）模式發展階段，叢集、虛擬垂直、整合是該階段的精髓。
具體來說，就是讓專精於不同領域的公司，彼此以結盟或戰略伙伴關係互補，以達到快速佈局的戰略目的，進而達到有效的垂直整合。
在晶片這個領域，為了縮短晶片設計週期，產業鏈各公司必須彼此溝通合作，透過廠商間的連結和 IP 整合，跟上客戶的需求和市場的變動，讓彼此的效益可以發揮到最大，實現最佳競爭優勢。
而隨著「異質整合」、「Chiplet」成為積體電路產業未來發展趨勢時，新的商業模式必將出現。現在，單打獨鬥的模式已經勢微，叢集、虛擬垂直、整合已經是大勢所趨。
第五次變革：下一個十年 - AI 晶片發展
2017 年 4 月，Google 公佈了一篇即將在 ISCA2017 上發表的論文：“In-Datacenter Performance Analysis of a Tensor Processing Unit”，公開了其做 AI 晶片的細節；2017 年 5 月，GTC2017 大會，Nvidia CEO 黃仁勳也釋出了 Volta 架構 GPU。
正因為這兩個重要的釋出，讓 2017 年被定義為 AI 晶片的元年。
晶片技術的發展是人工智慧發展的必要條件 ，晶片代表著算力。人工智慧的發展有幾大重要支柱，包括
- 資料：事實或觀察的結果
- 演算法：解決問題的方法，如深度學習演算法
- 算力：運算能力
從資料方面，網際網路時代下大資料高速積累，需要執行的資料量驟增，而現有算力難以匹配；從演算法方面，即使存在邏輯上可用的演算法，也需要有足夠算力才能處理資料樣本、訓練機器。由於算力的不可或缺和通訊應用（智慧手機等）增長的放緩，人工智慧的發展也將成為晶片技術進步的主要驅動力。
綜合來看，如果以設計理念進行劃分的話，AI晶片大致可分為兩大類別。
第一類是“AI加速晶片”，它是確定性地加速某類特定的演算法或任務，從而達到目標應用領域對速度、功耗、記憶體佔用和部署成本等方面的要求。目前，AI加速晶片的研發有兩種主要的方式：一種是利用已有的GPU、眾核處理器、DSP、FPGA晶片來做軟硬體優化；另一種是設計專用的晶片，也就是ASIC。
第二類是“智慧晶片”，它讓晶片像人一樣能使用不同的AI演算法進行學習和推導，處理包含感知、理解、分析、決策和行動的一系列任務，並且具有適應場景變化的能力。
目前，面向綜合、自適應能力的智慧晶片研究有兩類設計方法，一種是基於類腦計算的“神經擬態晶片”；另一種是基於可重構計算的“軟體定義晶片”。
圍繞這兩大方向，全球各大晶片公司都積極在人工智慧領域進行佈局。可以說，通過晶片技術來大幅增強人工智慧研發的時機已經非常成熟了。
但從晶片發展的大趨勢來看，目前尚處於 AI 晶片發展的初級階段，無論是科研還是產業應用都有巨大的創新空間。
從確定演算法、領域的 AI 加速晶片向具備更高靈活性、適應性的智慧晶片發展是科研發展的必然方向。業界專家也發出判定，未來十年將是 AI 晶片發展的重要時期，有望在架構和設計理念上再次取得巨大的突破。
三、晶片的製作流程以及材料
近兩年國際局勢的不穩定，讓許多人對我國的晶片生產憂心忡忡。
因為缺乏關鍵技術和裝置，我國的很多產品，包括手機、交換機、網路通訊基站以及核心晶片等都無法完全自主生產，這也是美國賴以“耀武揚威”的原因之一。
那麼，製作一個晶片到底涉及到哪些核心技術？又需要用到哪些原料？
晶片是如何製作出來的？
晶片製作完整過程包括晶片設計、晶片製作、封裝製作、測試等幾個環節，其中晶片製作過程尤為的複雜。
1. 製造矽晶圓
在沙子中加入碳，在高溫作用下，轉化成純度約99.9%的矽。經過熔化，從中拉出鉛筆狀的矽晶柱。通過鑽石刀將矽晶柱切成圓皮，拋光後便形成了矽晶圓。矽晶圓的直徑常見的有 8 英寸和 12 英寸，直徑越大、晶圓越薄，單個晶片的成本越低，但加工難度和對工藝的要求也就越高。
2. 光刻
光刻工藝的基本流程首先是在晶圓（或襯底）表面塗上一層光刻膠並烘乾。烘乾後的晶圓被傳送到光刻機裡面。
在矽片上塗抹光刻膠，讓紫外線透過一個掩膜照射光刻膠，掩膜上印著預先設計好的電路圖案。光刻過程中曝光在紫外線下的光刻膠通過光化學反應被溶解掉，有的晶片製作過程需要對曝光後的晶圓進行第二次烘烤，即所謂的曝光後烘烤，後烘烤是的光化學反應更充分。
最後，把顯影液噴灑到晶圓表面的光刻膠上，對曝光圖形顯影。顯影后，掩模上的圖形就被存留在了光刻膠上。塗膠、烘烤和顯影都是在勻膠顯影機中完成的，曝光是在光刻機中完成的。
整個曝光顯影系統是封閉的，晶圓不直接暴露在周圍環境中，以減少環境中有害成分對光刻膠和光化學反應的影響。
3. 摻雜
通過離子注入，賦予矽電晶體的特性。具體工藝是是從矽片上暴露的區域開始，放入化學離子混合液中。
一般是將硼或磷注入到矽結構中，接著填充銅，以便和其他電晶體互連。然後可以在上面再塗一層膠，再做一層結構。簡單的晶片可以只用一層，但複雜的晶片通常有很多層，現在的晶片大部分包含幾十層，形成一個立體的結構。
4. 封裝測試
在晶片做好後，用精細的切割器將晶片從晶圓上切下來，焊接到基片上，將製造完成晶圓固定，繫結引腳，按照需求去製作成各種不同的封裝形式，這就是同種晶片核心可以有不同的封裝形式的原因。經過測試後就可以包裝銷售了。
晶片有哪些核心材料？
1. 光罩
我們知道晶片的製作過程中有一步是「光刻」，其中提到了一個「掩膜」的概念，也就是光罩。
根據事先設計好的電路圖做成光罩，光刻機的光源通過光罩之後，就把電路圖印在晶圓上，而光罩就類似底片。
2018年，全球半導體制造材料市場規模為322億美元，其中光罩的市場規模大約45億美元，佔製造材料的14%，規模僅次於矽片。
2. 光刻膠
除了掩膜外，我們上文中還提到了光刻膠。要想完成光刻，必須事先在矽片上塗上光刻膠。
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束等照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料。從性質上來講，光刻膠分為正光刻膠和負光刻膠，被光照到使溶解度增加的是正光刻膠, 溶解度減小的是負型光刻膠。
不管是正是負，總之就是要讓被照到的和不被照到的地方形成溶解度不同的區域，然後把不想要的那部分割槽域溶解去掉即可。
不同種類的晶片，不同製程的晶片，使用的光刻膠不一樣，製作的難度也不一樣。
到 2018 年，全球光刻膠市場規模 16 億美元，規模並不大，但卻至關重要。
另外，光刻膠市場同樣是一個高度壟斷的市場，全球前 5 大公司市場份額超過 85%。而前 4 大光刻膠企業都是日本公司，分別是合成橡膠、信越化學、東京應化和住友化學。
3. 電子氣體
電路刻到了矽片上，要想讓晶片運作起來，需要有一個前提，那就是刻在矽片上的電晶體要有開關特性。電路要想有開關特性，就需要離子注入，而離子注入就需要電子氣體，又叫電子特氣。
用在晶片上的電子氣體首先的特點是高純，大部分電子氣體的純度達 99.99% 以上。而且大部分電子氣體具有高壓、易燃、高腐蝕和劇毒的特點。
電子氣體也是一個高度壟斷的市場，主要公司包括美國空氣化工、普萊克斯、德國林德集團、法國液化空氣和日本大陽日酸株式會社，這幾家公司佔了 90% 以上的市場份額。
4. 高純濺射靶材
當把電路圖刻到了晶圓上，做了各種清洗，注入了離子，但是還要把晶片上的電子元件連線起來才行，就像你把所有的元件都擺放好了，然後你要用導線把他們相互連線起來，這就需要用到濺射。濺射主要是製備薄膜材料，是物理氣相沉積（PVD）技術的一種。
濺射的大概意思是說用離子轟擊靶材，然後靶材上的原子被轟出來，最後掉在單晶矽的基板上，然後形成特定功能的金屬層，從而形成導電層或者阻擋層等，這就是金屬化。當在晶片表面形成金屬層後，再用光刻或者刻蝕，將不要的部分去掉，於是晶片表面就留下了金屬細線，這就能讓晶片上各種元器件連線起來了。
高純濺射靶材包括鋁靶、鈦靶、鉭靶和鎢鈦靶等。其中，8 寸晶圓生產中主要用到鋁靶和鈦靶，12 寸晶圓主要用到鉭靶和銅靶。
濺射靶材同樣屬於寡頭壟斷市場，主要企業包括日本日礦金屬、美國霍尼韋爾、日本東曹、美國普萊克斯和日本住友化學等。
總體來看，晶片的製作工藝壁壘非常高，相關的材料又大都處於行業壟斷的情況，因此行業整體的壁壘很高。隨著政治局勢的影響，確實容易成為各個國家之間掣肘的資源。
後記：芯事難“料”
國產化替代已經成為了我國改革開放四十餘年中，引領核心技術產業發展的一面旗幟，也是一場革命。在這場革命藍圖一隅，半導體產業國產化的這場馬拉松已經衝刺多年，從上游材料裝置到中游設計製造，再到下游封測，我國半導體產業鏈各個環節的國產化發展和競爭也異常激烈。
「毫無疑問，中國有製造晶片的工程師。問題是他們能否製造出具有競爭力的產品。」矽谷歷史學家、人工智慧學者皮耶羅·斯卡魯菲（Piero Scaruffi）問道。
但像斯卡魯菲這樣的行業分析師對中國真正的創新能力仍抱有疑問。他認為，中國目前取得的技術成功在於技術應用，而不是技術創造。
「如果你的衡量標準是有多少人使用智慧手機購物，那麼中國贏了。但如果你的衡量標準是諾貝爾獎得主，那麼中國輸得很慘，」他說，「當然，中國在通過應用技術，極大地改變社會方面非常成功。」
此次美國的管制，一方面確實對我國的晶片行業帶來了很大的影響，另一方面也給了我國企業發力證明自身實力的一個機會。
例如，在晶片設計環節包括華為海思、紫光集團都已經突破了技術侷限，尤其是華為海思更是掌握了 7nm 晶片設計技術。而晶片製造環節，中芯國際 14nm 製程工藝已經正式投產。在光刻機領域有上海微電子一馬當先，在刻蝕機領域則有中微半導體和北方華創雙雙出擊，中微半導體自主研發的 5nm 蝕刻機也運用到了臺積電首條 5nm 晶片生產線上。
此外，我國晶片封裝測試產業更是「一家獨大」。目前全球最大的封測公司是我國臺灣的日月光集團，世界排名第三的封測公司是我國的長電科技（600584），市場份額和第一也相差無幾。
但正如斯卡魯菲分析所說，相比於晶片製造，封裝測試的技術壁壘較低，所以進入相對容易一點。另外一方面，封裝測試是晶片細分領域裡的勞動密集型產業，而在勞動力方面，我國一直有優勢。
所以，世界上兩個最大的經濟體再次走向碰撞，我們不能盲目樂觀，也不用妄自菲薄。
隨著世界政治格局的洗牌，誰知道晶片行業會不會迎來一次新的洗牌呢。
部分參考資料：央視新聞：《晶片是怎麼製造的？》
芯思想：《晶片發展的六個時代》
君臨研究中心：《晶片製造材料的國產替代到底有多重要？》
南方週末：《晶片上的人》
